光纖紋路薄膜

Ⅰ 薄膜的應用參數

三氧化二釔
名稱：釔（Y）
三氧化二釔，（Y2O3）使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時折射率約為1.8，用作鋁保護膜極其受歡迎，特別相對於800-12000nm區域高入射角而言，可用作眼鏡保護膜，且24小時暴露於濕氣中，一般為顆粒狀和片狀。
透光范圍（nm) 折射率（N) 500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 蒸氣成分
250--8000 1.79 2300--2500 電子槍 防反膜，鋁保護膜 名稱：二氧化鈰（CeO2）
使用高密度的鎢舟皿（較早使用）蒸發，在200℃的基板上蒸著二氧化鈰，得到一個約為2.2的折射率，在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發生顯著變化，在300℃基板500nm區域折射率為2.45，在波長短過400nm時有吸收，傳統方法蒸發缺乏緊密性，用氧離子助鍍可取得n=2.35（500nm）的低吸收性薄膜，一般為顆粒狀，還可用一增透膜和濾光片等。
透光范圍（nm) 折射率（N) 500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
400--16000 2.35 約2000 電子槍 防反膜， 多
名稱：氧化鎂（MgO)
必須使用電子槍蒸發因該材料升華，堅硬耐久且有良好的紫外線（UV）穿透性，250nm時n=1.86，190nm時n=2.06， 166nm時K值為0.1， n=2.65。可用作紫外線薄膜材料。MGO/MGF2膜堆從200nm---400nm區域透過性良好，但膜層被限制在60層以內（由於膜應力）500nm時環境基板上得到n=1.70。由於大氣CO2的干擾，MGO暴露表面形成一模糊的淺藍的散射表層，可成功使用傳統的MHL折射率3層AR膜（MgO/CeO2/MgF2）。 名稱：硫化鋅（ZnS)
折射率為2.35,400-13000nm的透光范圍，具有良好的應力和良好的環境耐久性， ZnS在高溫蒸著時極易升華，這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無吸附性膜層，因此需要徹底清爐，並且在最高溫度下烘乾，花數小時才能把鋅的不良效果消除.HASS等人稱紫外線（UV）對ZNS有較大的影響，由於紫外線在大氣中導致15-20nm厚的硫化鋅膜層完全轉變成氧化鋅(ZNO）。
透光范圍（nm) 折射率（N) 550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 方式
400--14000 2.35 1000--1100 電子槍，鉭鉬舟 防反膜， 升華
應有：分光膜，冷光膜，裝飾膜，濾光片，高反膜，紅外膜. 名稱：二氧化鈦（TiO₂)
TiO₂由於它的高折射率和相對堅固性，人們喜歡把這種高折射率材料用於可見光和近紅外線區域,但是它本身又難以得到一個穩定的結果.TiO₂,Ti2O3. TiO,Ti，這些原材料氧-鈦原子的模擬比率分別為：2.0,1.67,1.5,1.0,0. 後發現比率為1.67的材料比較穩定並且大約在550nm生成一個重復性折射率為2.21的堅固的膜層，比率為2的材料第一層產生一個大約2.06的折射率，後面的膜層折射率接近於2.21.比率為1.0的材料需要7個膜層將折射率2.38降到2.21.這幾種膜料都無吸收性，幾乎每一個TiO2蒸著遵循一個原則：在可使用的光譜區內取得可以忽略的 吸收性，這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制.TiO2需要使用IAD助鍍，氧氣輸入口在擋板下面.
Ti3O5比其它類型的氧化物貴一些，可是很多人認為這種材料不穩定性的風險要小一些，PULKER等人指出，最後的折射率與無吸收性是隨著氧氣壓力和蒸著溫度而改變的，基板溫度高則得到高的折射率.例如，基板板溫度為400℃時在550納米波長得到的折射率為2.63，可是由於別的原因，高溫蒸著通常是不受歡迎的，而離子助鍍已成為一個普遍採用的方法其在低溫甚至在室溫時就可以得到比較高的折射，通常需要提供足夠的氧氣以避免（因為有吸收則降低透過率），但是可能也需要降低吸收而增大鐳射損壞臨界值（LDT).TiO2的折射率與真空度和蒸發速度有很大的關系，但是經過充分預熔和IAD助鍍可以解決這一難題，所以在可見光和近紅外線光譜中，TiO2很受到人們的歡迎. 在IAD助鍍TiO2時，使用屏蔽柵式離子源蒸發則需要200EV，而用無屏蔽柵式離子源蒸發時則需要333EV或者更少一些，在那裡平均能量估計大約是驅動電壓的60%，如果離子能量超過以上數值，TiO2將有吸收.而SiO2有電子槍蒸發可以提供600EV碰撞（離子輻射）能量而沒有什麼不良效應. TiO2/SiO2製程中都使用300EV的驅動電壓，目的是在兩種材料中都使用無柵極離子源，這樣避免每一層都改變驅動電壓，驅動電壓高低的選擇取決於TiO2所允許的范圍，而蒸著速度的高低取決於完全緻密且無吸收膜所允許之范圍. TiO₂用於防反膜，分光膜，冷光膜，濾光片，高反膜,眼鏡膜，熱反射鏡等，黑色顆粒狀和白色片狀，熔點：1175℃
透光范圍（nm) 折射率（N) 500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
400--12000 2.35 2000-2200 電子槍，防反膜，增透 多
TiO2用於防反膜，裝飾膜，濾光片，高反膜
Ti2O3用於防反膜 濾光片 高反膜 眼鏡膜 名稱：氟化釷（ThF4）
260-12000nm以上的光譜區域，是一種優秀的低折射率材料，然而存在放射性，在可視光譜區N從 1.52降到1.38（1000nm區域）在短波長趨近於1.6，蒸發溫度比MGF2低一些，通常使用帶有凹罩的舟皿以免THF4良性顆粒火星飛濺出去，而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加堅固.該膜在IR光譜區300NM小水帶幾乎沒有吸收，這意味著有望得到一個低的光譜移位以及更大的整體堅固性，在8000到12000NM完全沒有材料可以替代. 名稱： 二氧化硅（SiO2）
經驗告訴我們，氧離子助鍍（IAD)SiO將是SiO2薄膜可再現性問題的一個解決方法，並且能在生產環境中以一個可以接受的高速度蒸著薄膜.
SiO2薄膜如果壓力過大，薄膜將有氣孔並且易碎，相反壓力過低薄膜將有吸收並且折射率變大，需要充分提供高能離子或氧離子以便得到合乎需要的速度和特性，必要是需要氧氣和氬氣混合充氣，但是這是熱鍍的情況，冷鍍時這種性況不存在.
SiO2用於防反膜，冷光膜，濾光片，絕緣膜，眼鏡膜，紫外膜.
透光范圍（nm) 折射率（N) 550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
200--2000 1.46 1800-2200 電子槍，防反膜，增透 少，升華
無色顆粒狀，折射率穩定，放氣量少,和OS-10等高折射率材料組合制備截止膜，濾光片等. 名稱： 一氧化硅（SiO)
透光范圍（nm) 折射率（N) 550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
600--8000 1.55 at550nm1.8at1000nm1.6at7000nm 1200-1600 電子槍，鉭鉬舟 冷光膜裝飾膜保護膜，升華
製程特性：棕褐色粉狀或細塊狀.
熔點較低，可用鉬舟或鈦舟蒸發，但需要加蓋舟因為此種材料受熱直接升華.
使用電子槍加熱時不能將電子束直接打在材料上而採用間接加熱法.
制備塑料鏡片時，一般第一層是SiO，可以增加膜的附著力.
名稱：OH-5(TiO2+ZrO2）
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
300--8000 2.1 約2400 電子槍，
增透 一般
蒸氣成分為：ZrO,O2,TiO,TiO2
呈褐色塊狀或柱狀
尼康公司開發之專門加TS--ェート系列抗反射材料，折射率受真空度，蒸發速率，氧氣壓力的影響很大，蒸鍍時不加氧或加氧不充分時，制備薄膜會產生吸收現象，但是我們在實際應用時沒有加氧也比較好用. 名稱：二氧化鋯（ZrO2）
ZrO2具有堅硬，結實及不均勻之特性，該薄膜有是需要烘乾以便除去它的吸收，其材料的純度及為重要，純度不夠薄膜通常缺乏整體緻密性，它得益於適當使用IAD來增大它的折射率到疏鬆值以便克服它的不均勻性.純度達到99.99%基本上解決了以上的問題.SAINTY等人成功地使用ZRO2作為鋁膜和銀膜的保護膜，該膜層（指ZRO2）是在室溫基板上使用700EV氬離子助鍍而得到的.一般為白色柱狀或塊狀，蒸發分子為ZRO,O2.
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
320-7000 2.05
⒉0AT2000 約2500 電子槍，
增透，加硬膜
眼鏡膜保護膜 一般
製程特性：白色顆粒，柱狀，或塊狀，粉狀材料使用鎢舟或鉬舟.顆粒狀，粉狀材料排雜氣量較多，柱狀或塊狀較少.
真空度小於2*10-5Torr條件下蒸發可得到較穩定的折射率，真空度大於5*10-5Torr時蒸發，薄膜折射率逐漸變小。
蒸鍍時加入一定壓力的氧氣可以改善其材料之不均勻性。 名稱：氟化鎂（MgF2）
MGF2作為1/4波厚抗反射膜普遍使用來作玻璃光學薄膜，它難以或者相對難以溶解，而且有大約120NM真實 紫外線到大約7000nm的中部紅外線區域里透過性能良好。OLSEN，MCBRIDE等人指出從至少200NM到6000NM的區域里，2.75MM厚的單晶體MGF2是透明的，接著波長越長吸收性開始增大，在10000NM透過率降到大約2%，雖然在8000-12000NM區域作為厚膜具有較大的吸收性，但是可以在其頂部合用一薄膜作為保護層.
不使用IAD助鍍，其膜的硬度，耐久性及密度隨基板的溫度的改變而改變的.在室溫中蒸鍍，MGF2膜層通常被手指擦傷，具有比較高的濕度變化.在真空中大約N=1.32，堆積密度82%，使用300（℃）蒸鍍，其堆積密度將達到98%,N=1.39它的膜層能通過消除裝置的擦傷測試並且溫度變化低，在室溫與300（℃）之間，折射率與密度的變化幾乎成正比例的. 在玻璃上冷鍍MGF2加以IAD助鍍可以得到300（℃）同等的薄膜，但是125-150EV能量蒸鍍可是最適合的.在塑料上使用IAD蒸鍍幾乎強制獲得合理的附著力與硬度.經驗是MGF2不能與離子碰撞過於劇烈.
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
2000-7000 1.38
⒈35AT200 約1100 電子槍，
鉬鉭鎢舟 增透，加硬膜
眼鏡膜 少，MGF2
（MGF2）2
製程特性：折射率穩定，真空度和速率對其變化影響小
預熔不充分或蒸發電流過大易產生飛濺，造成鏡片木不良.在打開檔板後蒸發電流不要隨意加減，易飛濺.基片須加熱到高的張應力
白色顆粒狀，常用於抗反射膜，易吸潮.購買時應考慮其純度.
三氧化二鋁
名稱：三氧化二鋁（Al2O3）
普遍用於中間材料，該材料有很好的堆積密度並且在200-7000NM區域的透明帶，該製程是否需要加氧氣以試驗分析來確定，提高基板溫度可提高其折射率，在鍍膜程式不可理更改情況下，以調整蒸發速率和真空度來提高其折射率.
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
200-7000 1.63 2050 電子槍，增透，保護膜
眼鏡膜 一般，Al,O,
O2,AlO,Al2O,(AlO)2
製程特性：白色顆粒狀或塊狀，結晶顆粒狀等.
非結晶狀材料雜氣排放量高，結晶狀材料相對較少.
折射率受蒸著真空度和蒸發速率影響較大，真空不好即速率低則膜折射率變低；真空度好蒸發速率較快時，膜折射率相對增大，接近1.62
Al2O3蒸發時會產生少量的Al分子造成膜吸收現象，加入適當的O2時，可避免其吸收產生.但是加氧氣要注意不要影響到它的蒸發速率否則改變了它的折射率.
名稱：OS-10(TiO2+ZrO2）
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
250-7000 2.3 2050 電子槍，增透，濾光片，截止膜
一般，
製程特性：棕褐色顆粒狀. 雜氣排放較大，預熔不充分或真空度小於5*10-5Torr時蒸發，其折射率會比2.3小，幫必須充分預熔且蒸發真空度希望大於上述這數值.蒸發此種材料時宜控制衡定的蒸發速率，材料可添加重復使用，為減少雜氣排放量，盡量避免全數使用新材料.
蒸氣中的Ti和TiO和O2反應生成TiO2
常用於制備抗反射膜和SiO2疊加制備各種規格的截止膜系和濾光片等. 名稱：鍺（Ge)
稀有金屬，無毒無放射性，主要用於半導體工業，塑料工業，紅外光學器件，航天工業，光纖通訊等.透光范圍2000NM---14000NM,n=4甚至更大，937（℃）時熔化並且在電子槍中形成一種液體，然後在1400（℃）輕易蒸發.用電子槍蒸發時它的密度比整體堆積密度低，而用離子助鍍或者鐳射蒸鍍可以得到接近於鬆散密度.在鍺基板上與THF4制備幾十層的8000---12000NM帶通濾光片，如果容室溫度太高吸收將有重大變化，在240--280（℃）范圍內，在從非晶體到晶體轉變的過程中GE有一個臨界點. 名稱：鍺化鋅（ZnGe)
疏散的鍺化鋅具有一個比其相對較高的折射率，在500NM時N=2.6，在可見光譜區以及12000-14000NM區域具有較少的吸收性並且疏散的鍺化鋅沒有其材質那麼硬.使用鉭舟將其蒸發到150℃的基板上制備SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜層試圖獲到長波長IR漸低折射率的光學濾鏡. 名稱：氧化鉿（HfO2）
在150℃的基板上有用電子槍蒸著，折射率在2.0左右，用氧離子助鍍可能取和得2.05-2.1穩定的折射率，在8000-12000NM區HFO2用作鋁保護膜外層好過SIO2
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
230-7000 2.0 2350 電子槍，增透，高反膜
紫外膜 少
無色圓盤狀或灰色顆粒狀和片狀. 名稱：碲化鉛（PbTe）
是一種具有高折射率的IR材料，作為薄膜材料在3800---40000NM是透明的，在紅外區N=5.1-5.5，該材料升華，基板板溫度250℃是有益的，健康預防是必要的，在高達40000NM時使用效果很好，別的材料常常用在超過普通的14000NM紅外線邊緣. 名稱：鋁氟化物（AlF3）
可以在鉬中升華， 在190-1000NM區域有透過性，N=1.38，有些人聲稱已用在EⅪMER激光鏡，它無吸收性，在250-1000NM區域透過性良好.ALF3是冰晶石，是NaAlF4的一個組成部分，且多年來一直在使用，但是在未加以保護層時其耐久性還未為人知.
鈰（Ce）氟化物
名稱：鈰（Ce）氟化物
Hass等人研究GeF3，他們使用高密度的鎢舟蒸發發現在500NM時N=1.63，並且機械強度和化學強度令人滿意，他們指出在234NM和248NM的吸收最大，而在波長大過300NM時吸收可以忽略.FUJIWARA用鉬舟蒸發CEF3和CEO2混合物，得到一個1.60---2.13的合乎需要的具有合理重復性的折射率，他指出該材料的機械強度和化學強度都令人滿意.
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
300-5000 1.63 約1500 電子槍，
鉬鉭鎢舟 增透，
眼鏡 少 名稱：氟化鈣（CaF2）
CaF2是Heavens提出來的，它可以在10-4以上的壓力下蒸發獲得一個約為1.23---1.28的折射率。可是他說最終的膜層不那麼令人滿意，在室溫下蒸著氟化鈣其堆積密度大約為0.57，這與Ennos給出的疏散折射率1.435相吻合,這說明該材料不耐用並容易隨溫度變化而變化.原有的高拉應力隨膜厚增大而降低，膜厚增大導致大量的可見光散射.可以用鎢鉭舟鉬舟蒸發而且會升華，在紅外線中其穿透性超過12000nm，它沒有完全的緻密性似乎是其利用受到限制的原因，隨著IAD蒸著氟化物條件的改善這種材料的使用前景更為廣闊. 名稱：氟化鋇（BaF2）
與氟化鈣具有相似的物理特性，在室溫下蒸鍍氟化鋇，使用較低的蒸著速度時材料的堆積密度為0.66，並且密度變化與蒸著速度增大幾乎成正比，在速度為20NM/S堆積密度高達0.83，它的局限性又是它缺乏完全緻密性.透過性在高溫時移到更長的波長，所以它只能用在紅外膜.
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
250-15000 1.48 約1500 電子槍，
鉬鉭鎢舟 紅外膜 少 名稱：氟化鉛（PbF2）
氟化鉛在UV中可用作高折射率材料，在300nm時N=1.998，該材料與鉬鉭，鎢舟接觸時折射率將降低，因此需要用鉑或陶瓷皿.Ennos指出氟化鉛具有相對較低的應力，開始是壓力，隨著膜厚度的增加張力明顯增大，但這與蒸著速度無關.
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
250-17000 1.75 700--1000 電子槍，
鉑舟，坩鍋 紅外膜 少 名稱：鉻（Cr)
鉻有時用在分光鏡上並且通常用作膠質層來增強附著力，膠質層可能在5-50NM的范圍內，但在鋁鏡膜導下面，30NM是增強附著力的有效值.顆粒狀可用鎢舟蒸發而塊狀宜用電子槍來蒸發，該材料升華，但是表面氧化物可以防止它蒸發/升華，可以全用鉻電鍍鎢絲.可以用鉻作為膠質層對金鏡化合物進行韌性處理，也可在塑料上使用鉻作為膠質層.也可使用一個螺旋狀的鎢絲蒸發.它應該是所有材料中具有最高拉應力的材料.
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
⒈5 1300--1400 電子槍，
鉑舟，鎢舟 吸收膜分光膜導電膜加硬膜 名稱：鋁（Al)
不管是裝飾膜還是專業膜都是普遍用於蒸發/濺鍍鏡膜，常用鎢絲來蒸發鋁絲，在紫外域中它是普通金屬中反射性能最好的一種,在紅外域中不用Cu,Ag,Au.鋁原先有一個比較高的拉應力，在不透明厚度時，該 拉應力降低到一個小的壓應力，並且蒸著以後拉應力進一步降低.其膜的有效厚度為50NM以上. 名稱：銀（Ag)
如果蒸著速度足夠快並且基板溫度不很高時，銀和鋁一樣具有良好的反射性，這是在高速低溫下大量集結的結果，這一集結同時導致更大的吸收.銀通常不浸濕鎢絲，但是往往形成具有高表面張力的液滴，它可以用一高緊密性的螺旋式鎢絲來蒸發，從而避免液滴下掉.有人先在一個V型鎢絲上繞幾圈鉑絲接著繞上銀絲，銀絲可以浸濕鉑絲但沒有浸濕鎢絲. 名稱：金（Au)
金在紅外線1000nm波長以上是已知材料中具有最高反射性的材料，作為一種貴重金屬，它具有較強的化學堅硬性，由於它的可塑性因而抗擦傷性能低，AU可用鎢或氮化硼舟皿或者電子槍來蒸發（不能與鉑舟蒸發，它與鉑很快合金）.金對玻璃表面的附著力低，因而通常使用一層鉻作為膠質層.也可用氧離子助鍍使金的附著力得到上百倍的改善，在不透明性達到即中止IAD，並且最後的薄膜中不含有氧，摻氧將降低薄膜的反射率.
銦---錫氧化物
名稱：銦---錫氧化物和導電材料
銦-錫氧化物（ITO）和In3O5-SnO2有相對良好的導電性能和可見光穿性.這樣的薄膜在數據顯示屏和抗熱防霜裝置等方面已有很大原需求.在建築上可用作擇光窗和可控穿透窗.ITO n=1.85 at500nm熔化溫度約1450℃.
名稱：鋁（Al)
不管是裝飾膜還是專業膜都是普遍用於蒸發/濺鍍鏡膜，常用鎢絲來蒸發鋁絲，在紫外域中它是普通金屬中反射性能最好的一種，在紅外域中不用Cu,Ag,Au.鋁原先有一個比較高的拉應力，在不透明厚度時，該 拉應力降低到一個小的壓應力，並且蒸著以後拉應力進一步降低.其膜的有效厚度為50NM以上.
名稱：H1
透光范圍(nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
360--7000 2.1 2200-2400 電子槍，增透，眼鏡膜 少
名稱：H2
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
400-5000 2.1 2200 電子槍，增透，眼鏡膜 少
名稱：H4
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
360--7000 2.1 2200-2400 電子槍，增透，眼鏡膜濾光片 少
名稱：M1
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
300--9000 1.7 2200-2400 電子槍，增透，偏光膜 少
名稱：M2
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
210--10000 1.7 2100 電子槍，增透，偏光膜分光膜 少
名稱：M3
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
220--10000 1.8 2100 電子槍，增透，偏光膜 少
名稱：H5
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
210--10000 2.2 2100 電子槍,增透，濾光片 少
名稱：氧化鉭（Ta2O5）
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
400--000 2.1 1900--2200 電子槍，增透，干涉濾光片 少
名稱：WR--1
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
380--700 約1.5 360--450 鉬舟，頂層膜眼鏡膜 少
名稱：WR--2
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
380--700 約1.5 360--450 電子槍，鉬舟 頂層膜防水膜眼鏡膜 少
名稱：WR--3
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
380--700 約1.3 350--500 鉬舟 頂層膜保護膜眼鏡膜 少
名稱：L--5
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
300--7000 1.48 約2000 電子槍，增透，眼鏡膜 少
名稱：錐冰晶石（Na5AL3F14）
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
250--14000 約1.33 800--1200 鉬舟鉭舟 濾光片，紫外膜 少
冰晶石（Na3ALF6）
默克公司研製的一系列的混合膜料
H1 高折射率：2.1---2.15 適用於防反膜和眼鏡膜
H2 高折射率： 2.1-2.15 適用於防反膜和眼鏡膜
H4 高折射率： 2.1-2.15 適用於防反膜和濾光片膜眼鏡膜
M1 中折射率： 1.65-1.7 適用於防反膜和偏光膜
⒈ H1,H2,H4可用作來生產高折射率的膜層，在250℃的基底上，2.1-2.15的折射率共有同次性.M1可用來生產中折射率的膜層.H1,H4和M1也能鍍在未加熱的基底上，折射率會下降.
⒉ H1在可見光到紫外波段內有相當高的透過率，在360NM左右有吸收，同ZRO2一樣無法從溶解狀態下被蒸發較為均勻的膜層.
⒊ H2在可見光波段內有很高的透過率，但在380NM時有截止吸收，這意味著鍍膜條件不理想時1/2光學厚度的存在吸收.H2優點在於它能從溶解狀態下被蒸發，因此有良好的同次性和均勻的膜厚.
⒋ H4在可見光波段內有很高的透過率，象H1 一樣在360NM左右有吸收，它也能從溶解狀態下被子蒸發，具有良好的同次性.
⒌ M1在從近紅外到近紫外的波段內有很好的透過率，300NM時有吸收，它也能從溶解的狀態下被子蒸發，具有良好的同次性和物質，適合於是高折射率的基底上鍍增透膜.
在塑料基底上鍍膜因為無法加熱基底，所以在膜料的選擇上倍加小心，以確保它能在低溫下形成穩定膜層，由於溫度偏低折射率也隨之降低，相應的膜層設計也應改變.
MGF2不能在低溫下被子蒸鍍，因為只有200℃以上溫度時它才能形成穩定的薄膜，因此只能選擇氧化物來蒸鍍，有些人用IAD助鍍強制性得到一個近乎堅固的膜
部分膜料在塑料基底上的折射率：
SiO2 Al2O3 M1 Y2O3 ZrO2 H1 H4 TiO2
⒈45 1.62 1.65 1.8 1.9 1.95 1.95 1.9--2
H2不能在低溫下被蒸鍍，因為它在藍光波段有吸收。
M1， H4， SiO2可以組成經典的AR膜系
最常用的塑料基底是：
CR-39：N=1.5
PMMA: N=1.48-1.5
聚碳酸脂： N=1.59

Ⅱ 怎麼在光纖外鍍膜啊，鍍液晶薄膜。非金屬不能用磁控濺射法，那用什麼

請問解決這個問題沒？我也需要在光纖外鍍膜。。。不知如何下手

Ⅲ 光纖激光器可以切割塑料膜嗎

要具體看是什麼材質，PMMA和PC的效果好一點，PC會融化，注意距離，如果是普通的塑料，還是不用激光器的好，會產生黑煙，出光光纖或者聚焦透鏡就報廢了

Ⅳ pu導光光纖和tpu導光光纖有什麼區別

一、什麼是pu導光光纖
聚氨基甲酸酯，簡稱聚氨酯，英文縮寫：PU，是由多元異氰酸酯和多羥基化合物，通過鏈延伸劑進行縮聚反應而得到的一種高分子化合物。
PU導光光纖就是由纖芯和包層都用PU材料經精工製作而成的，具有材料環保、導光效果好等特點。
二、什麼是tpu導光光纖
TPU是一種新型的塑料品種，為聚氨酯彈性體，屬於PU家族的成員之一，藉助鏈延伸劑加聚反應生成的線型或輕度交聯結構的聚合物。
由於其具有耐磨性優異、耐臭氧性極好、硬度大、強度高、彈性好、耐低溫，有良好的耐油、耐化學葯品和耐環境性能等突出特點，因此被廣泛用於薄膜、滾輪、電纜電線等相關行業。
而TPU導光光纖則是由纖芯和包層都用TPU材料精工製作而成的，具有接續簡單、易於彎曲、施工容易、耐低溫、耐油、耐化學葯品等諸多特點
三、pu導光光纖和tpu導光光纖之間的區別
1、同屬一個家族：TPU導光光纖和PU導光光纖同屬於塑料光纖這一個家族體系中
2、材料配方不同：TPU導光光纖是聚氨酯彈性體材料製成的；PU導光光纖則是由聚氨基甲酸酯材料製成的
3、適用環境不同：由於TPU導光光纖和PU導光光纖使用的材料不同，TPU材料製成的導光光纖更加環保、適用環境更加廣泛

Ⅳ 什麼是薄膜光學技術

指與光學有關的技術。如光學儀器、光學設計、光學測量、光學材料、薄膜光學、非線性光學、激光技術與激光器、導波光學、光纖與集成光學等。

Ⅵ 光纖光譜儀可以測量薄膜厚度嗎

可以的，通過測量薄膜的反射率曲線，然後進行曲線擬合，得到薄膜厚度

Ⅶ 請問：0.1mm 的透明薄膜用什麼樣的接近開關檢測好請給出參考具體型號，謝謝！

電容式接近開關，最經濟適用，看朋友你需要多長的檢測距離，和達到的效內果 。因為介質不一容樣，檢測距離就有偏差，光纖也是可以的，成本高了，紅外線的，漫反射光電開關也可以，但需要穩定性好的，因為被檢測物體是透明的，不然會有誤動作，提供一家公司給你吧，上海戎睿自動化科技，因為很多醫療機械上都是用的他們的產品

Ⅷ 光纖與玻璃的材料分別是什麼

玻璃光纖是二氧化硅做的，因為和玻璃的材料及性質類似所以有人叫玻璃光纖。以光纖基質材料，主要有石英玻璃和多組分玻璃兩大類，而多組分玻璃又包括氟化物玻璃、磷酸鹽玻璃、碲酸鹽玻璃、鍺酸鹽玻璃以及混合系統玻璃等摻稀土光纖.摻稀土玻璃光纖作為近年來出現的一些新材料基質光纖放大器的增益介質,在實現寬頻通信中發揮了很大作用。

玻璃通常按主要成分分為氧化物玻璃和非氧化物玻璃。非氧化物玻璃品種和數量很少，主要有硫系玻璃和鹵化物玻璃。硫系玻璃的陰離子多為硫、硒、碲等，可截止短波長光線而通過黃、紅光，以及近、遠紅外光，其電阻低，具有開關與記憶特性。鹵化物玻璃的折射率低，色散低，多用作光學玻璃。

氧化物玻璃又分為硅酸鹽玻璃、硼酸鹽玻璃、磷酸鹽玻璃等。硅酸鹽玻璃指基本成分為SiO2的玻璃，其品種多，用途廣。通常按玻璃中SiO2以及鹼金屬、鹼土金屬氧化物的不同含量，又分為：

①石英玻璃。SiO2含量大於99.5％，熱膨脹系數低，耐高溫，化學穩定性好，透紫外光和紅外光，熔制溫度高、粘度大，成型較難。多用於半導體、電光源、光導通信、激光等技術和光學儀器中。

②高硅氧玻璃。SiO2含量約96％，其性質與石英玻璃相似。

③鈉鈣玻璃。以SiO2含量為主，還含有15％的Na2O和16％的CaO，其成本低廉，易成型，適宜大規模生產，其產量占實用玻璃的90％。可生產玻璃瓶罐、平板玻璃、器皿、燈泡等。

④鉛硅酸鹽玻璃。主要成分有SiO2和PbO，具有獨特的高折射率和高體積電阻，與金屬有良好的浸潤性，可用於製造燈泡、真空管芯柱、晶質玻璃器皿、火石光學玻璃等。含有大量PbO的鉛玻璃能阻擋X射線和γ射線。

⑤鋁硅酸鹽玻璃。以SiO2和Al2O3為主要成分，軟化變形溫度高，用於製作放電燈泡、高溫玻璃溫度計、化學燃燒管和玻璃纖維等。

⑥硼硅酸鹽玻璃。以SiO2和B2O3為主要成分，具有良好的耐熱性和化學穩定性，用以製造烹飪器具、實驗室儀器、金屬焊封玻璃等。硼酸鹽玻璃以B2O3為主要成分，熔融溫度低，可抵抗鈉蒸氣腐蝕。含稀土元素的硼酸鹽玻璃折射率高、色散低，是一種新型光學玻璃。磷酸鹽玻璃以P2O5為主要成分，折射率低、色散低，用於光學儀器中。

（1）普通玻璃（Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2）

（2）石英玻璃（以純凈的石英為主要原料製成的玻璃，成分僅為SiO2）

（3）鋼化玻璃（與普通玻璃成分相同）

（4）鉀玻璃（K2O、CaO、SiO2）

（5）硼酸鹽玻璃（SiO2、B2O3）

（6）有色玻璃在（普通玻璃製造過程中加入一些金屬氧化物。Cu2O——紅色；CuO——藍綠色；CdO——淺黃色；CO2O3——藍色；Ni2O3——墨綠色；MnO2——紫色；膠體Au——紅色；膠體Ag——黃色）

（7）變色玻璃（用稀土元素的氧化物作為著色劑的高級有色玻璃）

（8）光學玻璃（在普通的硼硅酸鹽玻璃原料中加入少量對光敏感的物質，如AgCl、AgBr等，再加入極少量的敏化劑，如CuO等，使玻璃對光線變得更加敏感）

（9）彩虹玻璃（在普通玻璃原料中加入大量氟化物、少量的敏化劑和溴化物製成）

（10）防護玻璃（在普通玻璃製造過程加入適當輔助料，使其具有防止強光、強熱或輻射線透過而保護人身安全的功能。如灰色——重鉻酸鹽，氧化鐵吸收紫外線和部分可見光；藍綠色——氧化鎳、氧化亞鐵吸收紅外線和部分可見光；鉛玻璃——氧化鉛吸收X射線和r射線；暗藍色——重鉻酸鹽、氧化亞鐵、氧化鐵吸收紫外線、紅外線和大部分可見光；加入氧化鎘和氧化硼吸收中子流。

（11）微晶玻璃（又叫結晶玻璃或玻璃陶瓷，是在普通玻璃中加入金、銀、銅等晶核製成，代替不銹鋼和寶石，作雷達罩和導彈頭等）。

（12）玻璃纖維（由熔融玻璃拉成或吹成的直徑為幾微米至幾千微米的纖維，成分與玻璃相同）

（13）玻璃絲（即長玻璃纖維）

（14）玻璃鋼（由環氧樹脂與玻璃纖維復合而得到的強度類似鋼材的增強塑料）

（15）玻璃紙（用粘膠溶液製成的透明的纖維素薄膜）

（16）水玻璃（Na2SiO3）的水溶液，因與普通玻璃中部分成分相同而得名）

（17）金屬玻璃（玻璃態金屬，一般由熔融的金屬迅速冷卻而製得）

（18）螢石（氟石）（無色透明的CaF2，用作光學儀器中的棱鏡和透光鏡）

（19）有機玻璃（聚甲基丙烯酸甲酯）

Ⅸ 薄膜上閃電一樣的紋路是什麼原因

機械哪個地方有灰塵吧