土法造光纖

⑴ 怎樣土法簡易溶光纖接頭

把光纖切整齊，然後固定到一個小板或者管道上，然後兩面聯通網路，逐漸移動兩邊的光纖，到通的比較好的時候，把兩邊粘起來，

⑵ 光纖的生產方法

目前通信中所用的光纖一般是石英光纖。石英的化學名稱叫二氧化硅(SiO2)，它和我們日常用來建房子所用的砂子的主要成分是相同的。但是普通的石英材料製成的光纖是不能用於通信的。通信光纖必須由純度極高的材料組成;不過，在主體材料里摻入微量的摻雜劑，可以使纖芯和包層的折射率略有不同，這是有利於通信的。
製造光纖的方法很多，目前主要有：管內CVD(化學汽相沉積)法，棒內CVD法，PCVD(等離子體化學汽相沉積)法和VAD(軸向汽相沉積)法。但不論用哪一種方法，都要先在高溫下做成預制棒，然後在高溫爐中加溫軟化，拉成長絲，再進行塗覆、套塑，成為光纖芯線。光纖的製造要求每道工序都要相稱精密，由計算機控制。在製造光纖的過程中，要注重：
①光纖原材料的純度必須很高。
②必須防止雜質污染，以及氣泡混入光纖。
③要准確控制折射率的分布;
④正確控制光纖的結構尺寸;
⑤盡量減小光纖表面的傷痕損害，提高光纖機械強度。 將微孔石英玻璃棒浸入高折射率的添加劑溶液中，得所需折射率分布的斷面結構，再進行拉絲操作，它的工藝比較復雜。在光導纖維通信中還可用內外氣相沉積法等，以保證能製造出光損耗率低的光導纖維。 氣相沉積法 對象 芯棒 外包層 方法 外部化學氣相沉積法
（OVD） 改進的化學氣相沉積法/管內化學氣相沉積法
（MCVD） 軸向化學氣相沉積法
（VAD） 等離子化學氣相沉積法
（PCVD） 套管法 粉末法 等離子噴塗法 溶膠-凝膠 反應
機理 火焰水解 高溫氧化 火焰水解 低溫氧化 VAD制芯棒
OVD沉積外包層 熱源 甲烷或氫氧焰 氫氧焰 氫氧焰 等離子體 沉積
方向 靶棒外徑向 管內表面 靶同軸向 管內表面 沉積
速率 大 中 大 小 沉積
工藝 間歇 間歇 連續 間歇 預制棒
尺寸 大 小 大 小 折射率
分布
控制 容易 容易 單模：容易
多模：較難 極易 原料
純度
要求 不嚴格 嚴格 不嚴格 嚴格 研發
企業 1974年美國康寧公司開發
1980年全面投入使用 1974年美國阿爾卡特公司開發 1977年日本NTT公司開發 荷蘭飛利浦公司開發 1995年美國Spectram開發 使用
廠家
（代表） 美國康寧公司
日本西谷公司
中國富通公司 美國阿爾卡特公司
天津46所 日本住友、古河等公司 荷蘭飛利浦公司、中國武漢長飛公司 · · · · · · · · · · · · · · · · · · 光導纖維應用時還要做成光纜，它是由數根光導纖維合並先組成光導纖維芯線，外面被覆塑料皮，再把光導纖維芯線組合成光纜，其中光導纖維的數目可以從幾十到幾百根，最大的達到4000根 冷接法是相對於熱熔接法而言的，指不需要高壓電弧放電來融化光纖，而使用光纖冷接子來將光纖連接起來或將光纖接入到光通訊設備中。

⑶ 光纖是怎麼製造出來的 完整

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光纖製造方法主要有：管內CVD（化學汽相沉積）法，棒內CVD法，PCVD（等離子體化學汽相沉積）法和VAD（軸向汽相沉積）法。光纖光纜等最好用達標的，我們工程布線一般使用菲尼特的。

⑷ 光纖的生產過程（分哪幾個步驟）

原料在高溫下發生氧化反應生成SiO2、B2O3、GeO2、P2O5微粉，沉積在石英反應管的內壁上。在沉積過程中需要精密地控制摻雜劑的流量，從而獲得所設計的折射率分布。採用MCVD法制備的B／Ge共摻雜光纖作為光纖的內包層，能夠抑制包層中的模式耦合，大大降低光纖的傳輸損耗。MCVD法是目前制備高質量石英光纖比較穩定可靠的方法，該法制備的單模光纖損耗可達到0.2-0.3dB／km，而且具有很好的重復性。 OVD法又為「管外汽相氧化法」或「粉塵法」，其原料在氫氧焰中水解生成SiO2微粉，然後經噴燈噴出，沉積在由石英、石墨或氧化鋁材料製成的「母棒」外表面，經過多次沉積，去掉母棒，再將中空的預制律在高溫下脫水，燒結成透明的實心玻璃棒，即為光纖預制棒。該法的優點是沉積速度快，適合批量生產，該法要求環境清潔，嚴格脫水，可以製得0.16dB／km（1.55μm）的單模光纖，幾乎接近石英光纖在1.55μm窗口的理論極限損耗0.15dB／km。 VAD法是由日本開發出來的，其工作原理與OVD相同，不同之處在於它不是在母棒的外表面沉積，而是在其端部（軸向）沉積。VAD的重要特點是可以連續生產，適合製造大型預制棒，從而可以拉制較長的連續光纖。而且，該法制備的多模光纖不會形成中心部位折射率凹陷或空眼，因此其光纖製品的帶寬比MCVD法高一些，其單模光纖損耗目前達到0.22-0.4dB／km。目前，日本仍然掌握著VAD的最先進的核心技術，所製得的光纖預制棒OH-含量非常低，在1385nm附近的損耗小於0.46dB／km。 PCVD法是由菲利普研究實驗室提出的，於1978年應用於批量生產。它與MCVD的工作原理基本相同，只是不用氫氧焰進行管外加熱，而是改用微波腔體產生的等離子體加熱。 PCVD工藝的沉積溫度低於MCVD工藝的沉積溫度，因此反應管不易變形；由於氣體電離不受反應管熱容量的限制，所以微波加熱腔體可以沿著反應管軸向作快速往復移動，目前的移動速度在8m／min，這允許在管內沉積數千個薄層，從而使每層的沉積厚度減小，因此折射率分布的控制更為精確，可以獲得更寬的帶寬。而且，PCVD的沉積效率高，沉積速度快，有利於消除SiO2層沉積過程中的微觀不均勻性，從而大大降低光纖中散射造成的本徵損耗，適合制備復雜折射率剖面的光纖，可以批量生產，有利於降低成本。目前，荷蘭的等離子光纖公司占據世界領先水平。 此外，在光纖製造過程中應採取措施從幾何尺寸和光學上嚴格控制非圓度，優化折射率差，並採用三包層結構，從而減少偏振模色散（PMD）。另外，Shigeki Sakaguchi等研究了光纖中的瑞利散射損耗與Tf的關系，實驗證實對光纖進行熱處理可以降低微觀不均勻性，減少瑞利散射損耗。 聚合物光纖的制備方法之一就是預制棒拉纖法，制備聚合物光纖預制棒的方法通常有：光共聚法、兩步共聚法和界面凝膠法，其中界面凝膠法制備預制棒的技術最為成熟。利用不同折射率的單體的擴散速度不同，反就時的不同單體的競聚率不同以及自動加速凝膠效應，使其折射率形成梯度，這樣製造出的漸變折射率型的光纖預制棒具有折射率分布可控，而且分布均勻的優點，是目前研究的熱點。

⑸ 看看光纖是怎麼製造出來的

1、最主要需要：研磨機，端面檢查儀，固化爐，插回損測試儀，插芯壓接機，尾柄壓接機，點膠機。
2、根據產能，產能大的話還需配備裁纜機和多台研磨機。

3、光纖跳線(又稱光纖連接器)是指光纜兩端都裝上連接器插頭，用來實現光路活動連接;一端裝有插頭則稱為尾纖。[1] 光纖跳線（Optical Fiber Patch Cord/Cable)和同軸電纜相似，只是沒有網狀屏蔽層。中心是光傳播的玻璃芯。在多模光纖中，芯的直徑是50μm~65μm，大致與人的頭發的粗細相當。

⑹ 光纖架設需要注意的問題！

光纖不怕打雷。
光纖在架設、熔接與測試中應注意的問題

光纖是目前傳輸信息最理想的媒質，具有損耗小、頻帶寬、抗干擾強的特點，因此被廣泛的應用在通信、電視、數據傳輸網路中。但是，如果不按照技術規范要求去架設，熔接也會帶來意想不到的後果和麻煩。下面將我們在省網黃石--大冶--陽新段實際施工中遇到的問題分別加以說明。

（1）光纖的架設：根據光纖的結構，纖芯是由脆性石英玻璃纖維製作的，外面加裝填充材料，鋼絲加強筋，鋁裝護套和塑料護套等構成。它是怕折不怕拉（當然不能超過它的極限抗拉力），因此它在空中架設過程中，不能象架設同軸電纜那樣隨意，它要求較高。正確的做法是：必須要求專業施工隊伍架設，並配有放線架，組織一定的人力，分布均勻的中間接力，按照光纖配盤順序架設，開口、掛勾要密度適中分布均勻，每根桿子處要有凹型滴水溝，每盤光纜在接頭處應留有幾十米的餘量（主要用於接續盒地面熔接操作或桿子控斷有餘地）。如果不按上述規范來操作，不用放線架，採用土法上馬，靠人肩背扛，有的施工路段不好，要上高山、下水田、過塘堰等障礙，那更要組織指揮好，千萬不能讓光纜打折拉扭，否則容易造成斷芯或高損耗點，將來返工是非常麻煩的。特別是層統式單根鋼絲的光纜容易出現這樣的問題。

（2）光纖的熔接：光纖的熔接是件非常細心和認真的工作，要作好記錄，包括芯數、顏色、順序、熔接損耗等及配盤圖紙。熔接也有講究，不是兩根料芯一碰就行了。首先是選用熔接機型號，傳1550nm光纖熔接時選用熔接機檔次要高一點，熔接損耗小一點，一般控制在0.04dB以下，超過此值要重新熔接。其次是熱塑管，質好的熱塑管鋼絲不易掉出來，手感富有彈性，質次的熱塑管鋼絲細、硬，加熱後象根鋼絲棍。有的纖芯熔好後，經過加熱冷卻後仍在這里斷芯，當時還不知道，只有當工程熔接完工後測試時才發現有斷芯現象，且斷點就在熱塑管內。我們分析認為可能是這種質次的熱塑管膨脹系數與光纖張力不同步造成的；也可能是熱塑管未冷卻時用鑷子夾出來受力或振動之故。再就是光纜中心的鋼絲固定方法也不容忽視，正確的做法是，鋼絲穿過固定螺栓時，鋼絲的下面必須是填充束管，不能是纖芯束管。鋼絲如果壓在纖芯束管受力變形會造成損耗過大，尤其要注意1550nm光纖。還有在熔接時光纖剝統應留長點（約70公分左右為宜），便於今後返工有餘地，熔接操作時也方便。再則光纖在接續盒內盤線彎曲半徑弧度不能太小。弧度太小易造成折射損耗過大，造成色散現象。

（3）光纖的測試：光纖在架設、熔接完工後就是測試工作，現在大量的使用測試儀器，用的是OTDR時域計。主要是用來測試光纖的長度、衰減值、判斷斷點和高損耗點的故障位置。為了測試准確，時城計的脈定量程要選擇適當，按照廠方給出的折射率n值的指標設定。在判斷故障點時，預先不知道距離長度時，先放在自動位置，大概找出粗略位置，然後放在手動位置，將脈寬量程放在小的位置（與距離量程對應），盲區減小直至與坐標線重合。脈寬越小越精確，當然脈定太小後曲線顯示出現噪波，要恰到好處。再就是加接探纖盤，目的是為了防止近處有盲區不易發覺。關於判斷斷點時，如果斷點不在接續盒處，將就近處接續盒打開，接上時域針、裸纖盤、測試准確的位置。我們就是利用上述方法，判斷兩處人為的用針插斷和刀割斷芯損壞的位置。判斷高損耗點及處理時，如發現中途有高損耗點，又不在接續盒時，同樣利用上述方法，根據測試距離找到故障點，是拉扭打折的話，要用手順其反方向校正即可。如若還不能解決，那隻有加接續盒，別無它法。

另外，在光纖架設過程中，多餘的光纖應盤放在杯子上，不要剪掉，按照配盤的數據長度便於測試時准確的找到故障點。

⑺ 光纖怎麼生產

用於制備光纖預制棒的方法主要採用以下四種方法：改進化學汽相沉積法（MCVD），外部汽相沉積法（OVD），汽相軸向沉積法（VAD）和等離子體化學汽相沉積法（PCVD）。

1969年Jone和Hao採用SiCl4氣相氧化法製成的光纖的損耗低至10dB／km，而且摻雜劑都是採用純的TiO2、GeO2、B2O3及P2O5，這是MCVD法的原型，後來發展成為現在的MCVD所採用的SiCl4、GeCl4等液態的原材料。原料在高溫下發生氧化反應生成SiO2、B2O3、GeO2、P2O5微粉，沉積在石英反應管的內壁上。在沉積過程中需要精密地控制摻雜劑的流量，從而獲得所設計的折射率分布。採用MCVD法制備的B／Ge共摻雜光纖作為光纖的內包層，能夠抑制包層中的模式耦合，大大降低光纖的傳輸損耗。MCVD法是目前制備高質量石英光纖比較穩定可靠的方法，該法制備的單模光纖損耗可達到0.2-0.3dB／km，而且具有很好的重復性。

OVD法又為「管外汽相氧化法」或「粉塵法」，其原料在氫氧焰中水解生成SiO2微粉，然後經噴燈噴出，沉積在由石英、石墨或氧化鋁材料製成的「母棒」外表面，經過多次沉積，去掉母棒，再將中空的預制律在高溫下脫水，燒結成透明的實心玻璃棒，即為光纖預制棒。該法的優點是沉積速度快，適合批量生產，該法要求環境清潔，嚴格脫水，可以製得0.16dB／km（1.55μm）的單模光纖，幾乎接近石英光纖在1.55μm窗口的理論極限損耗0.15dB／km。

VAD法是由日本開發出來的，其工作原理與OVD相同，不同之處在於它不是在母棒的外表面沉積，而是在其端部（軸向）沉積。VAD的重要特點是可以連續生產，適合製造大型預制棒，從而可以拉制較長的連續光纖。而且，該法制備的多模光纖不會形成中心部位折射率凹陷或空眼，因此其光纖製品的帶寬比MCVD法高一些，其單模光纖損耗目前達到0.22-0.4dB／km。目前，日本仍然掌握著VAD的最先進的核心技術，所製得的光纖預制棒OH-含量非常低，在1385nm附近的損耗小於0.46dB／km。

PCVD法是由菲利普研究實驗室提出的，於1978年應用於批量生產。它與MCVD的工作原理基本相同，只是不用氫氧焰進行管外加熱，而是改用微波腔體產生的等離子體加熱。 PCVD工藝的沉積溫度低於MCVD工藝的沉積溫度，因此反應管不易變形；由於氣體電離不受反應管熱容量的限制，所以微波加熱腔體可以沿著反應管軸向作快速往復移動，目前的移動速度在8m／min，這允許在管內沉積數千個薄層，從而使每層的沉積厚度減小，因此折射率分布的控制更為精確，可以獲得更寬的帶寬。而且，PCVD的沉積效率高，沉積速度快，有利於消除SiO2層沉積過程中的微觀不均勻性，從而大大降低光纖中散射造成的本徵損耗，適合制備復雜折射率剖面的光纖，可以批量生產，有利於降低成本。目前，荷蘭的等離子光纖公司占據世界領先水平。

此外，在光纖製造過程中應採取措施從幾何尺寸和光學上嚴格控制非圓度，優化折射率差，並採用三包層結構，從而減少偏振模色散（PMD）。另外，Shigeki Sakaguchi等研究了光纖中的瑞利散射損耗與Tf的關系，實驗證實對光纖進行熱處理可以降低微觀不均勻性，減少瑞利散射損耗。

聚合物光纖的制備方法之一就是預制棒拉纖法，制備聚合物光纖預制棒的方法通常有：光共聚法、兩步共聚法和界面凝膠法，其中界面凝膠法制備預制棒的技術最為成熟。利用不同折射率的單體的擴散速度不同，反就時的不同單體的競聚率不同以及自動加速凝膠效應，使其折射率形成梯度，這樣製造出的漸變折射率型的光纖預制棒具有折射率分布可控，而且分布均勻的優點，是目前研究的熱點。

⑻ 說明光纖的主要制備方法有哪些

光纖跳線的製作方法需要有專業的設備和熟練的工作人員

⑼ 神奇，光纖是怎樣製造出來的

首先制備一定光學結構光纖預制棒，常用方法有MCVD，VAD，OVD，PCVD等；
然後拉製成直徑125微米的光纖，拉制過程外面進行塗敷，增強光纖的強度和韌性。

⑽ 中國能造光纖嗎

造光纖早就可以了，做光纖的核心技術是製作預制棒，這個技術難題也在前些年攻克了。目前可以完全自主生產光纖。